等離子體清洗機plasma改性活化為干式清洗設備，具有濕式清洗不可比擬的優(yōu)點，它在清洗材料表面的同時，也對材料進行了活化，有利于材料進行下一步的涂覆粘接等處理。等離子體處理機廣泛用于等離子清洗、蝕刻、等離子鍍膜、等離子涂層、等離子灰化及表面改性等方面。經處理后，可提高材料的潤濕性，使多種材料都能進行涂覆、電鍍作業(yè)，增強粘結力和粘結力，同時去除有機污染物、油污和油脂等。

　　應用等離子技術對各種材料表面進行活化處理，其操作簡單，處理前后沒有有害物質產生，處理效果好，效率高，運行成本低。

　　等離子設備接受過處理的零部件在進行后續(xù)加工之前可存放多久？零部件的存放時間取決于活化時間和材料 ，最短為幾分鐘，最多可達到數(shù)月。因此，通常有必要進行現(xiàn)場試驗。

　　“清洗表層”是大氣等離子清洗機技術的關鍵，簡易地說清洗表層便是在待處理材料的表層打出成千上萬人眼看不到的小孔，同時在表層產生一層新的氧化膜，這樣就可以增大了材料的表面積，間接提升了材料表層的黏附性、相溶性、浸潤性、擴散性等。并且這種特性非常好的運用于手機、電視、微電子技術、半導體材料、汽車等領域，為很多公司解決了很多年未處理的難點。

　　等離子中加工處理存有著很多的混合氣體分子結構、電子器件和離子外，還存有很多受激發(fā)的中性原子、原子團氧自由基及等離子射出去的光束。等離子清潔是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基以及射出去的光束與被清潔外表的污染物質分子結構分別出現(xiàn)活化反映而因此將污染物質消除的全過程。